2018未來科學大獎：數(shù)學與計算機科學獎 | 視頻
獲獎理由：“數(shù)學與計算機科學獎”表彰他開拓浸潤式微影系統(tǒng)方法，持續(xù)擴展納米級集成電路制造，將摩爾定律延伸多代。
林本堅博士一系列突破性的創(chuàng)新所開拓的浸潤式微影（也稱光刻）方法，革新了集成電路的制程，使先進半導體芯片的特征尺寸能持續(xù)縮減為細微納米量級，在過去十五年以及可預見的未來，為建造最強大的計算和通信系統(tǒng)做出了關(guān)鍵貢獻。
傳統(tǒng)的“干式”微影自1959年半導體工業(yè)界發(fā)明平面積成電路以來被持續(xù)使用了四十年，然而受限于基本光學衍射，在90年代后期，用該方法制造特征尺寸小于65納米的芯片面臨無法逾越的瓶頸。林本堅博士預見昂貴的“干式”微影技術(shù)將進入死角，建議使用浸潤式或「濕式」微影，該方法是一種新的微影工序，透過液體介質(zhì)置換透鏡和晶圓表面之間的氣隙以提高光學解析精度。雖然原始的浸潤式概念在80年代曾提出過，但距離可實現(xiàn)的方法很遠。為使得全面表征及優(yōu)化浸潤式微影系統(tǒng)，林本堅定義了并導出了關(guān)鍵性能指標和縮放公式，為極高解析度的三維浸潤式微影光學系統(tǒng)規(guī)范了必須遵行的縮放定律。他還研發(fā)出克服液體中微氣泡形成的方法，開拓了在熱力學極限下，經(jīng)由水而衍射的微影工序。他的一系列發(fā)明在科學和工程上證實了“濕式”微影方法可用于最先進的IC制程，他的突破性發(fā)明和持久的技術(shù)引領(lǐng)促使全球半導體工業(yè)界改用“濕式”微影方法。在過去的十五年中浸潤式微影方法用最有成本效益的193nm ArF為激光源顯影，將IC技術(shù)節(jié)點從65nm循產(chǎn)業(yè)路線圖持續(xù)降至7nm，使得摩爾定律得以持續(xù)延伸了七代。根據(jù)IEEE近期的數(shù)據(jù)統(tǒng)計，浸潤式微影技術(shù)制造了至少世界上80％的晶體管。
自六十年前發(fā)明集成電路以來，半導體技術(shù)推動了人類歷史上最大的工業(yè)及社會化革命。在我們慶祝集成電路誕生六十周年之際，將未來科學大獎的數(shù)學和計算機科學獎 - 授予這位極具成就的科學家和發(fā)明家，半導體工業(yè)界的英雄，「浸潤式微影之父」不僅恰當且意義深遠。
注：本文內(nèi)容來自“未來論壇”。
httpszhuanlan.zhihu.comp110897433 費馬大定理證明了全世界數(shù)學家都是白癡